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徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200

規(guī)格：其他

所屬類型：其它儀器

品牌：徠卡

價格：電議
發(fā)布時間：2020/07/09 10:13
數(shù)量：大量
所在地：江蘇南京

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產(chǎn)品詳情

規(guī)格：其他
品牌：徠卡
用途：適用于常規(guī)SEM和TEM分析

Leica EM ACE200徠卡低真空鍍膜儀-全新一代噴金儀/噴碳儀/蒸鍍儀：

Leica EM KMR3徠卡玻璃制刀機(jī)制作高精度玻璃刀。采用平衡斷裂法，儀器機(jī)械部件平衡配重，高精度不銹鋼半球支撐玻璃條下方，使玻璃條劃痕兩側(cè)所承擔(dān)的重量和壓力相等，并且使玻璃條與其下方支撐的接觸面達(dá)到更小，確保玻璃條完全平衡斷裂，制作出高品質(zhì)的刀鋒。儀器采用人體工學(xué)設(shè)計，使用簡單更舒適。

訂購熱線：186-0255-6086

Leica EM ACE200徠卡低真空鍍膜儀-關(guān)鍵特征體現(xiàn)優(yōu)勢：

全自動化可獲得重復(fù)性鍍膜
• 電腦程序控制，觸屏參數(shù)設(shè)置，鍍膜進(jìn)程全自動化運(yùn)行
• 配置石英片膜厚監(jiān)控，確保制備出可重復(fù)性鍍膜

濺射和碳絲蒸發(fā)鍍膜功能多樣
• 可配置成濺射鍍膜儀或碳絲蒸發(fā)鍍膜儀，也可根據(jù)需要裝配可調(diào)換鍍膜源，實現(xiàn)兩種
鍍膜方式
• 還可選配石英片膜厚監(jiān)控，用于制備可重復(fù)性鍍膜；行星旋轉(zhuǎn)樣品臺，用于對裂紋型
樣品噴鍍均勻鍍膜；輝光放電，用于使TEM網(wǎng)格親水化

更多細(xì)節(jié)帶來舒適工作體驗
• 高品質(zhì)臺式鍍膜儀設(shè)計小巧緊湊，占地小，節(jié)省實驗室空間
• 儀器的門、卷簾、內(nèi)部屏蔽、光源、載物臺等部件均可拆卸，容易清洗
• 直觀的觸摸屏一鍵式操作使儀器使用操作簡便

Leica EM ACE200徠卡低真空鍍膜儀技術(shù)參數(shù)
	可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）
	設(shè)計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可控制碳膜厚度
	可選石英膜厚檢測器，控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm
	全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程
	觸摸屏控制，簡單方便
	真空度≤7x10-3mbar
	濺射電流：0-150mA可調(diào)
	方形樣品倉設(shè)計，樣品倉尺寸：140mm（寬）x145mm（深）x150mm（高）
	工作距離調(diào)節(jié)范圍：30-100mm

標(biāo)簽：其它儀器

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